Spector

掩膜关键尺寸(CD)测量系统

面向先进掩膜制造的高精度光学量测平台

Spector是专为半导体掩膜制造中的关键尺?(CriticalDimension, CD)测量打造的?端光学量测系统，?持?14英?掩膜的?精度测量，全?满??65nm?艺节点的掩膜检测需求。 

系统可选配紫外光源，并对光学器件进?专?优化，确保关键尺?测量重复性优于1.5nm，满??稳定性和??致性的量测要求。

Spector 采?全封闭式设计，?持SMIF传输接?和全?动化搬运流程，满?洁净环境下的?动化?产需求。 同时，系统内置标准 SECS/GEM 通讯协议，便于?缝集成?Fab?动化系统，助?客户实现?度?动化，智能化的掩膜制造流程。